吸附質(zhì)氮?dú)鈿庠粗械臍怏w雜質(zhì)對吸附過程的影響
更新時(shí)間：2010-07-16 點(diǎn)擊次數(shù)：2099
| 吸附質(zhì)氮?dú)鈿庠粗械臍怏w雜質(zhì)對吸附過程的影響？ | | | |
對于99.995%的高純吸附載氣和吸附質(zhì)氣體，其中的主要雜質(zhì)氣體為水份。假設(shè)氣源氣體中水份的含量為0.004%，則樣品處在-195.8℃、30ml/min的流速中120min內(nèi)停留在粉末表面的水的量為 0.14ml（標(biāo)況下的體積），而對于500mg比表面積為1m2/g的材料，在其表面形成水的單分子層吸附所需要的水蒸汽的量為：0.12 ml（標(biāo)況），與實(shí)際停留在粉末表面的水量相當(dāng)，材料表面已經(jīng)被水分飽和；如果不吹掃處理繼續(xù)測試，那測試結(jié)果將不可能正確。對于色譜法孔徑測試需要測試三四十個(gè)分壓點(diǎn)，影響更是顯著，若分壓點(diǎn)之間不做吹掃處理，zui后得到的結(jié)果將不是固體材料本身對氮分子的吸附了，而是包覆了水分子的顆粒對氮分子的吸附了，孔隙也早已被高沸點(diǎn)易吸附氣體雜質(zhì)H2O、CO2飽和。
要消除吸附質(zhì)氣源中的氣體雜質(zhì)H2O、CO2等的影響， 可采用冷阱氣體凈化裝置，冷阱是消除高沸點(diǎn)氣體雜質(zhì)的有效方式；比表面儀配備的冷阱，使本會(huì)被樣 品吸附的水份等高沸點(diǎn)雜質(zhì)提前被冷阱捕獲，使得經(jīng)過凈化后的高純氮和高純氦氣體中的水分含量低于10-17Pa，達(dá)到超高純氣體狀態(tài)；
3H-2000系列比表面儀是國內(nèi)*配備冷阱的比表面儀器，這也是該系列儀器能夠取得高精度和高分辨率的因素之一。
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